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小型多信道光耦合器的关键技术:堆栈LED结构
发布时间: 2003-12-31 被阅览数: 1517 次 来源:
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最新的光耦合器的核心是输入LED和输出光侦测器,二者是由一个光传导媒介(也可提供电气绝缘功能)或额外的光传导介电层所隔开。光侦测器可以是光电晶体管、光电二极管加晶体管、或整合的侦测器/逻辑集成电路。大部份的光耦合器都必须依照UL1577、CSA和IEC/DIN EN/EN 60747-5-2的基本安全标准进行认证。

    在某些应用中,提高一个封装内的光耦合器数量,有助于降低制造成本及节省印刷电路板的空间。以计算机系统为例,在一个封装内整合2个以上的光耦合器信道,可大幅减少并行接口与串行接口(如RS232/485/422、SPI(串行周边接口)和I2C总线)的零件使用数量及电路板空间。多信道光耦合器为工业、电子量测及医疗系统的PLC(可编程逻辑控制器)、Fieldbus接口和数据采集,以太网供电(POE)和网络电路板等通信应用,以及等离子显示面板和其它消费类设备提供了相同的优点。


    以往试图将多个光耦合器整合到单颗DIP/表面贴装而进行的工程,已被证实是一大挑战。主要的问题来自于各种封装工艺的结合及LED裸片(Dice)的向前发射特性。其中的一些困难包括:


制造步骤变得更多且更复杂;
在光耦合器的信道间会出现轻微的泄漏/串音;
因为绝缘材料的配置困难导致需要增加IC芯片的数量;
基于引线框和封装几何学而需要非常大的封装。
光耦合器制造技术
光耦合器的工运作必须依赖LED发射器传到光侦测器的光线,当中会通过一个透明的媒介,它可提供2.5 kV到6 kV的高电压绝缘。光线耦合的程度取决于光导的结构和透明度。光导材料本身或额外的光传导介电材料,可提供绝缘效果。LED的排列、光导材料、介电材料和IC,会直接影响光耦合与高电压绝缘的性能。一般而言,光耦合器的封装与传统IC的封装很类似,差别在于必须透过特殊的工艺步骤和材料来形成光导,及达到高电压绝缘需求。下列表格分别介绍各种不同的成型光耦合器制造技术,并说明特殊的材料、工艺与限制。


    在单信道光耦合器的双模子工艺(double mold process)中,LED和IC裸片会被附着在两个不同的引线框并进行引线接合,然后再利用焊接将两个引线框结合在一起。当引线框焊接在一起之后,LED会正对着IC,并且位在IC上方。接着使用白色的光传导化合物来铸造结合的引线框以构成光导,如此就可将光线从LED传到IC光侦测器。此白色化合物也能提供高电压绝缘。最后,使用不透明的化合物来铸造组件,以完成最后的封装轮廓。


    在介电配置工艺中,LED与IC的排列跟在双模子工艺中一样,但这次会在LED与IC之间使用硅树脂来构成光导,而非使用白色化合物。此外,还会在LED与IC之间加入一个光传导介电,以形成高电压绝缘。最后,再以不透明的成型化合物来铸造组件。


    在平面工艺中,LED和IC必须位在同一个引线框的相同平面,并进行引线接合,然后加上一层透明的硅树脂,以近似圆顶的形状覆盖在LED和IC上面。这层硅树脂可提供光导。为防止光线漏出,必须在透明硅树脂上再涂一层白色颜料,这样LED发出的光将会反射到圆顶内的IC。最后再使用不透明的成型化合物来填充组件。


堆栈LED技术


图4显示一个光耦合器的横切面,其中LED直接堆放在光电探测器IC上。这种堆栈LED方法的关键,在于向后发射的LED。


    光电二极管芯片包含了两个透明层:SiO2钝化/绝缘层和光传导聚醯亚氨层。LED利用一个透明连接层,牢牢附着在光电二极管上。IC裸片必须使用环氧化银来附着在引线框上,介电材料须以光传导环氧化物附着在IC上,而LED裸片则得用光传导环氧化物附着在介电材料上。最后再对组件进行引线接合与铸造。标准的裸片附着工艺可用来完成所有的配置,封装则以一层不透明的成型化合物来铸模。


堆栈LED的优点


高整合度:堆栈LED技术使用传统的IC组装设备,大幅提升封装的能力和弹性。基本上,在任何的整合封装内都可插入发射器-侦测器芯片组。


减少制程步骤:这种方法所需的工艺步骤较少,因此是比较有效的制造方法。


小巧超薄的封装:封装的总高度完全取决于IC、LED、超薄的聚醯亚氨、及LED引线接合高度的整个组合的厚度。


图5比较了不同工艺的封装高度。


向后发射LED


图6显示传统的向前发射LED与透明基板向后发射LED的横切面。表4描述了它们的特性。


    对于向后发射的LED来说,必须将作用层置于透明基板上,让组合物渐渐变成所需的波长。发光区是在晶圆工艺中定义的,装置上的基板则会保持完整不变。


    安捷伦在新系列的多信道和双向15 MBd数字逻辑闸光耦合器中加入了堆栈LED结构。这个系列包含了二、三和四信道产品,主要采用小巧的8接脚(二信道为4.9mm×5.9mm×1.7mm)和16接脚三和四信道为9.9mm×5.9mm×1.7mm)SOIC封装。


图1:封装成型光耦合器的双模子工艺。


表1:双模子工艺。


图2:封装成型光耦合器的介电配置工艺。


表2:介电配置工艺。


图3:封装成型光耦合器的平面工艺。


表3:平面工艺。


图4:光耦合器的横切面,其中LED直接堆放在光电探测器IC上。


图5:双模子、介电配置、平面与堆栈LED工艺的封装高度。


图6:传统吸收基板向前发射LED与透明基板向后发射LED的横切面比较。(点击放大该图)


表4:传统LED与向后发射LED的差异。


作者:Theng-Hui Kek,Leonard Tan
隔离产品部门
半导体产品事业群
安捷伦科技股份有限公司



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